ＢｉｔＭａｐ描画について（業者からの聞き取り)

重ね描画における外部、内部マークの使い方

ノート型マックへのファイル変換

ビーム電流を変更して続けて2回露光するときの注意

標準的な重ね描画マニュアル

描画部装置使用マニュアル（東京テクノロジー）（H25/10/30)

フィールドサイズごとの描画条件（H25/10/30)

ビーム電流とビーム径の関係（H25/10/30)

ビーム電流変動量増加・チャージアップテスト・ブランキング電極洗浄(2019/3/7)

トラブル事例　Q&A

修理履歴　　最新：2020/12/24 ステージ部

日本電子　連絡先（装置番号、コールセンター）（H25/10/29)

ＥＢＬ設計、露光について 1/2（H25/10/30)　（パワーポイント＞ｐｄｆファイル）

ＥＢＬ設計、露光について2/2　（パワーポイント＞ｐｄｆファイル）

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